/

あなたの人生をより快適にするために開発されたソリューションの詳細をご覧ください。 私たちのブースに立ち寄って頂いた皆さん、ありがとうございました!

弊社プラズマテクノロジー事業部は、来る11月30日(木)午後12時55分より産業技術総合研究所つくば中央にて開催される「薄膜実践セミナーIII」におきまして、原子層堆積法(ALD)の成膜技術について講演をさせて頂く事となりました。

Release date: 2014年4月1日 nano micro biz /...

MEMSデバイス : 次世代の産業及び民生用製品を実現します。   MEMS2014 サンフランシスコ(32番ブース)で当社の製品担当者と会うことができ、 北米担当副社長 Andy ...

当社のプラズマALDは、基板にバイアス電圧を印加することによって、さらにその機能を高めることができます。この新技術は成膜中、応力から結晶までの正確な特性調整を可能にし、現在主流の半導体アプリケーションに加えて、MEMS、LED及びパワー半導体などの多様なアプリケーションに応用が広がっています。

オックスフォード・インストゥルメンツ社プラズマテクノロジーは、バッチ式エッチング装置の新製品を発表しました。新製品PlasmaPro1000...

オックスフォード・インスツルメンツ社 プラズマテクノロジーが新しく更新したiPhone & iPad用アプリは、ユーザーが元素周期表を介して任意の材料によるエッチングや成膜プロセスの化学的性質を調べたりすることができます

プラズマ真空処理装置のリーディングカンパニーであるオックスフォード・インストゥルメンツ プラズマテクノロジーは、PlasmaPro100 Sapphireは、最新の枚葉処理エッチング技術を提供いたします。