エッチングプロセスで重要な5つの要素
 

高いウェハスループット​

高速エッチング速度と短時間のクリーニングは、装置の稼働時間を向上させます。

エッチング形状制御

垂直のファセット形状はデバイスの発光効率が高いことを意味します。

滑らかなエッチング面

滑らかなエッチング面は光散乱が少ないことを意味します。

正確なエッチング深さ制御

複雑なデバイス構造の処理に欠かせないのは、狙った層で正しくエッチングストップすることで、これがうまく行かないとデバイスを壊してしまうこともあります。

均一性

均一なエッチング深さは、各ウェーハからより多くのデバイスを製造することができることを意味し、これにより歩留まりを改善し、コストを低減します。
 

 

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